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[成功] Evolution of Filament Formation in Ni/HfO2/SiOx/Si-Based RRAM Devices

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发表于 2016-1-13 13:24:32 |只看该作者 |正序浏览

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题名	Evolution of Filament Formation in Ni/HfO2/SiOx/Si-Based RRAM Devices
链接	http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/aelm.201500130/abstract

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发表于 2016-1-13 13:24:33 |只看该作者

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