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[成功] Impact of Rapid Crystallization of Si Using Nickel-Metal-Induced Lateral Crys...

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发表于 2014-3-14 22:48:27 |只看该作者 |倒序浏览

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题名	Impact of Rapid Crystallization of Si Using Nickel-Metal-Induced Lateral Crystallization on Thin-Film Transistor Characteristics
作者	Sho Nagata, Gou Nakagawa and Tanemasa Asano
杂志	Jpn. J. Appl. Phys.
年\|卷\|期	2012, 51
页码	02BH04
链接	http://iopscience.iop.org/1347-4065/51/2S/02BH04/pdf/1347-4065_51_2S_02BH04.pdf

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沙发

发表于 2014-3-14 22:48:28 |只看该作者

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发表于 2014-3-14 22:51:10 |只看该作者

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