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标题: 消除薄层(TLC)拖尾方法 [打印本页]

作者: rydberg 时间: 2012-10-11 21:47
标题: 消除薄层(TLC)拖尾方法
薄层色谱是样品与硅胶之间的吸附<解吸附的过程，当你的样品与硅胶吸附能力过强的时候，就会造成拖尾（不考虑过载，过载大多会造成拖尾）。这时候需要更强的溶剂系统来解吸附，因此对于羧酸类化合物，需要醋酸或者甲酸来加强洗脱极性；另外，羧酸的电离也会造成拖尾，因此加入醋酸或者甲酸抑制电离，使得薄层点比较圆。同理，对于碱性物质，也需要加碱（通常是三乙胺、二乙胺或者氨水）来加强洗脱极性和抑制电离。<br><br>由于普通的硅胶板都是弱酸性的，所以对于某些酸敏感的化合物，需要用碱板。在铺板时，用0.05~0.5%的NaOH代替水来铺就可以得到碱板了

作者: 岚霏 时间: 2012-10-18 19:39
在铺板时，用0.05~0.5%的NaOH代替水来铺就可以得到碱板了

xuexi

作者: 科研虫虫 时间: 2012-10-18 19:46
好专业.....过柱层析,分离纯品用的啊.

作者: expaper 时间: 2012-10-18 22:32
今天这里帖子量还可以啊，呵呵

作者: tansuodangzhong 时间: 2012-10-18 22:43
很强很专业！

作者: 拿破仑 时间: 2012-10-19 14:47
很好很专业

作者: rydberg 时间: 2012-10-19 22:35

拿破仑发表于 2012-10-19 14:47
很好很专业

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